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一种无预镀型无氰镀银电镀液

放大字体  缩小字体发布日期:2012-10-09  浏览次数:1268
核心提示:本发明提供一种无预镀型无氰镀银镀液。所述电镀液的原料配方各组分的质量浓度为:银离子来源物1 ~ 200 g/L,配位剂肌酐及肌酐衍生物1 ~ 800 g/L
 

公开号 101260549

公开日 20080910

申请人 福州大学

地址 福建省福州市工业路523号

本发明提供一种无预镀型无氰镀银镀液。所述电镀液的原料配方各组分的质量浓度为:银离子来源物1 ~ 200 g/L,配位剂肌酐及肌酐衍生物1 ~ 800 g/L,支持电解质1 ~ 200 g/L,镀液pH调节剂0 ~ 550 g/L及电镀添加剂体系。与传统的有氰镀银工艺配方相比,该无氰镀银电镀液毒性极低或无毒,镀液稳定性好;同时,镀液中银离子与铜、镍、铁、铝、铬、钛等单金属及合金基底的置换速率非常慢,镀件无需预镀银或浸银,镀层结合力良好且光亮,满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。

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